Gyorsító feszültség
100 ÷ 450 kV
Energia stabilitás
<2.5 keV
Legkisebb energia lépés
2.5 keV
Legnagyobb nyalábáram
100 µA *
Legnagyobb sepertetett nyaláb intenzitás
1 µA *
Ion források
Nagyáramú ionforrás (Danfysik, Model 910)
Porlasztásos ionforrás
Gyorsítható ion fajták:
Nemesgázok: H+, H2+, He+, Ne+, Ne2+, Ar+, Ar2+, Kr+, Kr2+, Xe+, Xe2+
Gázok : N+, N2+, O+
Fémek : Al+, Ti+, 56Fe+, 57Fe+, Co+, Ni+, Pb+, Pb2+, V+
Egyéb : B+, Si+, P+, Sb+, Sb2+, Bi+, Bi2+
Molekula ionok: N2O+, BF+
Nagyfeszültség előállítása
kaszkád generátor
Nagyvákuum rendszer
turbomolekuláris szivattyúk
Vákuum az implantációs kamrában
6×10-5 ÷ 10-3 Pa **
Maximális sepertetés
25×50 mm
Minta hőmérséklete
szobahőmérséklet - 600 °C
Minta hőmérséklet mérési tartomány
300 ÷ 1100 °C (Infravörös detektorral)
Tömegszeparáció
1 AMU 60 ÷130-as tömegszám között ***
Implantációs dózisok
1012 ÷ 5×1017 atom/cm2
*ionfajtától függ
**minta hőmérséklettől függ
***ionforrástól függ.
 
Csoportok: