Magyar
English|
Gyorsító feszültség
|
100 ÷ 450 kV
|
|
Energia stabilitás
|
<2.5 keV
|
|
Legkisebb energia lépés
|
2.5 keV
|
|
Legnagyobb nyalábáram
|
100 µA *
|
|
Legnagyobb sepertetett nyaláb intenzitás
|
1 µA *
|
|
Ion források
|
Nagyáramú ionforrás (Danfysik, Model 910)
Porlasztásos ionforrás |
|
Gyorsítható ion fajták:
|
Nemesgázok: H+, H2+, He+, Ne+, Ne2+, Ar+, Ar2+, Kr+, Kr2+, Xe+, Xe2+
Gázok : N+, N2+, O+ Fémek : Al+, Ti+, 56Fe+, 57Fe+, Co+, Ni+, Pb+, Pb2+, V+ Egyéb : B+, Si+, P+, Sb+, Sb2+, Bi+, Bi2+ Molekula ionok: N2O+, BF+ |
|
Nagyfeszültség előállítása
|
kaszkád generátor
|
|
Nagyvákuum rendszer
|
turbomolekuláris szivattyúk
|
|
Vákuum az implantációs kamrában
|
6×10-5 ÷ 10-3 Pa **
|
|
Maximális sepertetés
|
25×50 mm
|
|
Minta hőmérséklete
|
szobahőmérséklet - 600 °C
|
|
Minta hőmérséklet mérési tartomány
|
300 ÷ 1100 °C (Infravörös detektorral)
|
|
Tömegszeparáció
|
1 AMU 60 ÷130-as tömegszám között ***
|
|
Implantációs dózisok
|
1012 ÷ 5×1017 atom/cm2
|
*ionfajtától függ
**minta hőmérséklettől függ
***ionforrástól függ.
**minta hőmérséklettől függ
***ionforrástól függ.
Csoportok: